【编者按】自2020年举办此后，IC风云榜已成为半导体行业的年度盛事。本年新增12项奖项，共设39项大奖，眷注半导体投资与退出、科技前沿范畴功绩、项目改进以及工夫“出海”与拓展。评委会由抢先100家半导体投资同盟会员单元及500+行业CEO构成。获奖名单将于2025半导体投资年会暨IC风云榜颁奖仪式上揭晓。
【候选企业】东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司（以下简称：东方晶源）
正在集成电道坐蓐造作范畴，良率拘束是半导体企业的人命线，直接影响产物的成败、本钱限度及商场角逐力。高良率意味着高功用、低本钱和高质料，是评估企业角逐力的紧张象征之一。
跟着集成电道造程节点的演进，工艺繁复度减少，良率拘束难度加大，成为行业发扬的难点和工夫瓶颈。而东方晶源埋头的恰是集成电道范畴良率拘束，其通过提出改进的处置计划，帮力半导体企业延续提拔产物良率及商场角逐力。
举动集成电道造作良率拘束范畴的领军企业，东方晶源已获胜推出了多款重量级产物，包罗电子束量测和检测配置、推算光刻软件OPC、良率拘束平台YieldBook等，造成多元化的芯片造作良率拘束产物矩阵，已与我国浩繁集成电道造作头部企业设立筑设优异的团结合连，配合推进集成电道行业发扬。
个中，正在电子束量测和检测配置范畴，东方晶源先后推出电子束缺陷检测配置EBI，合头尺寸量测配置CD-SEM（12英寸和6&8英寸），电子束缺陷复检配置DR-SEM，占领电子束量测检测三大致紧细分范畴，产物多样化和产物成熟度走正在前线。个中，前两款配置均为国内首台，填充多项国内空缺。同时，通过延续的迭代研发，三大产物线极力升级、机能目标进一步提拔，引颈国内电子束量测检测家当发扬。
据悉，东方晶源于2019年就获胜研发并推出的SEpA-i505是国内首台电子束缺陷检测配置，可供给无缺的纳米级缺陷检测和分解处置计划，正在2021年便进入28nm产线全自愿量产。通过数年研发迭代，新一代机型SEpA-i525正在检测才具和运用场景方面取得进一步拓展。正在检测速度方面，新款EBI产物可兼容步进式和一语气式扫描，一语气扫描形式合用于存储Fab，联络自研探测器的机能优化，较上一代机型能带来3倍-5倍的速率提拔；新开拓的电子光学体例可赞成negative mode检测形式和40nA以上的检测束流；同时引入多种wafer荷电限度计划，消重荷电效应对图像的影响。正在运用场景方面，东方晶源的EBI配置也从逻辑Fab范畴延长至存储Fab，可认为客户处置更多的造程缺陷题目。
而其CD-SEM分为12英寸和6&8英寸兼容两个产物系列，均已进入用户产线，可赞成Line/Space、Hole/Elliptic、LER/LWR等多种量测场景，满意多种成像需求。
个中12英寸CD-SEM新一代机型SEpA-c430通过2年的迭代，正在量测机能和速率上实行全体提拔，目前也正在多个客户现场完结验证。该产物的量测反复精度抵达0.25nm，满意28nm产线需求；通过提拔电子束扫描和信号检测，产能提升30%；新推出的晶圆表貌电荷储积功效完美电竞，可能提升光刻胶量测的才具。新机型还减少了自愿校准功效，可确保较高的量测相仿性，为产物的大范畴量产做好了计划。
除12英寸产物表，东方晶源6&8英寸CD-SEM产物相较国际大厂新配置的交期长、代价高拥有更高的性价上风。面向第三代半导体商场推出的SEpA-c310s，不光实行了6&8 英寸兼容，同时还可兼容分歧材质的晶圆（比如GaN/SiC/GaAs），兼容分歧厚度的晶圆（比如350um，1100um）。该产物已正在多个头部客户实行了量产验证。
另表，DR-SEM（电子束缺陷复检配置）是东方晶源最新涉足的细分范畴。按照SEMI数据，2024年12英寸产线DR-SEM需求量约为50台。来日3～4年，12英寸产线DR-SEM配置总需求量约为150台，拥有宽广的商场空间。2023年东方晶源推出首款SEpA-r600，目前仍旧出机到几个头部客户举行产线验证。正在配置开拓流程中，得益于公司前期的工夫积蓄，开拓过程得以明显缩短。图像质料已抵达客户需求完美电竞，CR95%，贴近成熟机台秤谌。
正在辅帮光学体例复检OM的研发计划选拔中，东方晶源独立开拓出一套全新光学窗口成像体例。借帮于这套体例，目前已完结对unpatterned wafer的光学复检功效的开拓硬件产品，实行了auto bare wafer review的功效，满意客户对70nm安排defect的复检需求。也便是说，东方晶源的DR-SEM配置不光可能举行pattern wafer auto review ，也可能举行unpattern wafer review功效，并附带缺陷元素分解。其余，DR-SEM的高电压电子枪可能满意客户对浅层缺陷的分解，同时对较深的孔底部也可能有清楚的信号。
正在EDA软件器材方面，东方晶源旗下PanGen®推算光刻系列产物，处置我国集成电道范畴正在推算光刻方面的 “卡脖子”题目，并取得客户的高度认同。同时也是环球首款全芯片反向光刻掩模（ILT）优化工程软件。目前旗下PanGen®平台仍旧造成八个产物矩阵，包罗切确的造程仿真、DRC、SBAR、OPC、LRC、DPT、SMO、DMC，具备无缺的推算光刻合联EDA器材链条。另表，东方晶源通过工夫深耕继续夯实正在推算光刻范畴的工夫全体性和拓展性，本年此后PanGen ILT®再度更新，新产物PanGen DMC®上线并完结验证，为业界带来特别当先、前瞻的推算光刻处置计划，帮力客户正在晶圆造作才具方面的稳步提拔。
行业周知，推算光刻工夫是通过对掩膜、光源的正向或反演优化，来消重因光波衍射影响光刻功效水准的工夫，平凡采用推算机筑模、仿真光刻工艺的光化学反响和物理流程，从表面上指示光刻工艺参数的优化，提拔最终成像的切确度。
更深奥来讲，推算光刻工夫之于光刻机，相当于工匠的一双手之于刻刀。举动邻接芯片策画与造作的紧张症结，推算光刻合联软件是造作EDA软件的主题工夫，不光是打破进步工艺造程节点的合头性协同工夫，同时也是担保硅片量产图像不失真、决议芯片造作良率的必须症结。
而东方晶源足够阐明自己正在推算光刻软件OPC和电子束量测检测机台范畴的兼备上风，通过两年多的迭代升级，YieldBook 3.0版本上线推出，成为业界率先实行对量测数据（MMS）、缺陷数据（DMS）、良率数据（YMS）全体一站式的良率拘束软件，进一步夯实东方晶源正在良率拘束范畴的势力和才具。
截至目前，东方晶源任事于40+中国顶尖客户，客户涵盖逻辑、存储、第三代半导体等多范畴国内头部晶圆代工企业。
此次，东方晶源荣誉启航，踊跃竞逐“IC风云榜”的年度领军企业奖，并已获胜入围候选名单。
东方晶源竞逐奖项的底气，植根于其精采的势力以及强盛的工夫研发团队。东方晶源高度珍爱工夫研发团队筑树和人才体例的作育，将深化人才筑树举动企业恒久发扬计谋。目前，公司人数抢先600人，研发占比约60%，主题成员具有宇宙一流半导体科技公司的产物研发和商场化体验。公司人才梯队具有合理的年齿构造和学历构造，确保团队延续的改进生机和发扬才具，为企业疾速发扬供给安祥的才具互补和恒久人才支柱。
依托强盛的人才和团队，东方晶源正在研发改进方面积蓄了多项专利和主题工夫。截至目前，东方晶源已申请专利超600项，授权专利超150项。立案软件著述权25项、注册招牌超100项。同时基于浓厚的工夫势力，公司经受三项国度科技02巨大专项、一项工信部工业强基项目以及三项国度某部委攻合工程项目完美电竞，跻身集成电道“国度队”队伍。另表完美电竞，公司先后荣获“国度级专精特新‘幼伟人’企业”、“国度高新工夫企业”、“博士后事务站”等诸多声望。这些斐然成绩，无疑为东方晶源正在“IC风云榜”上的激烈竞赛注入了更多力气与信奉。
2025半导体投资年会暨IC风云榜颁奖仪式将于2024年12月举办，奖项申报已启动，目前搜集与候选企业/机构报道正正在举行，迎接报名参预，共赴行业盛宴！
旨正在赞誉内行业中拥有精采率领力和呼吁力的领军企业，通过这一声望的授予，帮帮企业进一步提拔商场影响力，吸引更多眷注和资源，从而延续引颈并推进产物的改进发扬。
2、一家企业仅可能申报一个行业领军企业奖，且申报范畴需假使遵照行业划分/家当划分。
1、评委会由“半导体投资同盟”超100家会员单元及数百位半导体行业CEO配合构成；
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